光刻设备：掩模对准系统 抗蚀剂处理系统

EVG在光刻技术方面的关键能力在于其掩模对准器的高通量接触和接近曝光功能以及其抗蚀剂处理系统的内部处理知识。 EVG的所有光刻设备平台均已准备好300毫米，可以完全集成到其HERCULES光刻轨道系统中，并配有用于从上到下的侧面对准验证的度量工具。

EVG不断展望未来的市场趋势，因此提供了针对特定应用的解决方案，尤其是在光学3D传感和光子学市场中，其**的EVG的工艺和材料专业知识-广泛的优化研究涉及多种抗蚀剂材料。了解客户需求并提供有效的**支持是EVG光刻解决方案成功的重要因素。

 IQ Aligner NT掩模对准系统

EVG的掩模对准系统可容纳尺寸多达300 mm的晶圆和基板，尺寸，形状和厚度各不相同，旨在为高级应用提供复杂的解决方案，并具有高度的自动化程度，并为研发提供充分的灵活性。

EVG150抗蚀剂处理系统

EVG100系列光刻胶处理系统在光刻胶涂层和显影的质量和灵活性方面建立了新的标准。

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 集成光刻光刻系统

 光刻跟踪系统通过完全集成的生产系统和结合了掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理功能的高度自动化，完善了EVG光刻产品系列。