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Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管CLV200,科研专属
CLV200 小批晕生产用垂直炉管
I 适用于砫衬底的半导体集成电路的生产
centrotherm C LV 200 是一个独立的小批量晶圆 生产设备,能实现各项热处理工艺,适用于少量生产及 研发。
cent rot herm 工艺反应 腔体及加热系统有着*特的设计, zui高升温至 11 00 摄氏度。由于一炉尺寸较小(一批至多 50 片晶圆), CLV 200 炉管能提供 非常灵活的常压及低压工艺,降低顾客研发费用。
cent rot herm 的设计在高效, 低耗上非常出色, 同时也具备了生产各种半导体器件的工艺灵活性。
常压工艺退火
氧化
扩散LPCVD PECVD
Zui高温度可达 11 00° C
净化间占用面积小 [1.6 m叮
售 批量生产 100 mm 至200 mm 晶圆售 一批可处理 50 片晶圆
售 全自动 cassette -to-cassette 传片