SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD

SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD

SENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）。

SI 500 PPD是电容平板式PECVD等离子沉积设备，主要用于SiO2，SiOxNy，SiNy，a-Si，SiC薄膜的沉积 。适用于2"--8" 样片的薄膜沉积。

图1、SI 500 PPD 设备外形图

系统配置：

• 电源13.56 MHz, 600 W
• 驱动电极集成了淋浴头和暗区屏蔽
• 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)
• 预真空锁loadlock， 带有取放机械手
• 高速率真空泵系统，独立气流压强控制
• 上电极和下电极分别加热，具备高的长期可靠性和工艺重复性
• 基底温度20ºC至350ºC
• 远程控制(RFC)
• SENTECH高级等离子设备操作软件

图2、SI 500 PPD 控制软件

选项：

• 可选低频应力调节
• Cassette到cassette操作方式
• 穿墙式安装
• 在线椭偏测量(SE 401, SE 801)