Trymax 先进等离子灰化和蚀刻 NEO2400

TRYMAX 等离子除胶机

型号：NEO系列

TRYMAX

Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择，目前已有上百台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、先进封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。

NEO2400系列是Trymax半导体设备行业良好的NEO系列先进等离子灰化和蚀刻产品的较新成员之一。

NEO 2400系统可配置任何现有的处理模块，并与直径达200mm的基板兼容。

•特征

 - 200mm晶圆尺寸/基板尺寸

-4个集成的SMIF索引器或4个开放式卡带站

-4轴双臂机器人用横臂搬运

 - 可选的冷却站和切口对准器

-2或4个处理室

-4种不同的处理室技术：

•下游微波（2.45 GHz）

•RF偏压（13.56 MHz）

•双源（微波，射频偏压）

•DCP（RF偏压，直接耦合等离子）

 - 优异的均匀性和可重复性

 - 机械吞吐量> 300wph

 - 紧凑的足迹

 - 非常低的拥有成本

 - 完全数字控制的Devicenet，以太网

 - 基于窗口的工业计算机

•应用程序

 - 阻挡条带

-Descum处理

 - 去除聚合物

 - 邮寄高剂量植入带

 - 氮化硅蚀刻应用

-MEMS应用程序

 - 先进的包装加工（PR，PI，BCB，PBO）